Российские ученые представили проект многолучевого литографа с ускорением в 3000 раз
Российские исследователи завершили научно-исследовательский этап работы над отечественным многолучевым электронным литографом. Установка предназначена для производства микросхем с технологическими нормами от 350 нм до нескольких нанометров. Сообщение об этом распространили «Известия».
В отличие от традиционных электронных литографов, где используется один электронный луч, новая разработка опирается на мультикатодную технологию. Она формирует сразу множество независимых электронных пучков на общей подложке. Такой подход позволяет экспонировать кремниевые пластины значительно быстрее.
По расчетам разработчиков, обычному однолучевому литографу на обработку одной пластины требуется от полутора до двух недель. Многолучевой комплекс справится с этой задачей за 5–7 минут. Потенциальный рост производительности оценивается примерно в 3000 раз.
В проекте созданы массивы источников электронных пучков с радиусом закругления вершины 1,5–2 нанометра. По словам создателей, это соответствует одному из лучших мировых показателей.
Еще одним достоинством называется более простая конструкция по сравнению с зарубежными аналогами. В иностранных многолучевых системах обычно применяется сложная схема расщепления одного луча с большим числом зеркал и оптических элементов. Российская установка формирует независимые источники сразу, что может снизить стоимость оборудования, энергопотребление и требования к инфраструктуре.
Сейчас проект переходит к опытно-конструкторским работам. Первый опытный образец, по оценкам специалистов, может появиться примерно через три года. Разработчики также отмечают, что предельное разрешение электронных литографов зависит не только от установки, но и от характеристик фоторезистов.
