Intel начала массовое производство процессоров с High-NA EUV-литографией
Компания Intel объявила о начале массового производства процессоров с применением High-NA EUV-литографии (Extreme Ultraviolet с высокой числовой апертурой). Это первый случай в индустрии, когда данная технология используется для коммерческих чипов, а не только для исследований и тестовых образцов.
Новое оборудование — литографические установки ASML EXE — применяется для формирования отдельных слоёв процессоров Panther Lake, которые относятся к серии Intel Core Ultra Series 3. В основе технологии лежит числовая апертура 0,55 вместо прежних 0,33, что позволяет повысить разрешение с 13 до 8 нм. Речь идёт о возможностях оптической системы, а не о маркетинговом обозначении техпроцесса.
Полный перевод процессоров на High-NA пока не производится. Intel квалифицировала два варианта изготовления слоёв — на традиционных установках NXE и новых EXE. Такой подход позволяет гибко переключать производство между поколениями оборудования, снижая зависимость от новых систем.
Одна установка High-NA EUV стоит около $400 млн, что почти вдвое дороже обычных EUV-машин. Помимо закупки оборудования производителям необходимо разрабатывать новые фоторезисты, фотошаблоны, методы измерений и адаптировать производственные процессы. Это требует крупных инвестиций и серьёзной технологической подготовки.
Главное преимущество High-NA — возможность формировать сложные структуры за меньшее число этапов экспонирования. Это сокращает время изготовления пластин, расход материалов, снижает вероятность ошибок совмещения и дефектов, что в перспективе может уменьшить себестоимость. Насколько эти преимущества компенсируют стоимость оборудования, зависит от конструкции конкретных чипов и объёмов выпуска.
Для Intel внедрение High-NA имеет стратегическое значение. Компания рассчитывает использовать опыт массового производства Panther Lake для развития своего контрактного подразделения Intel Foundry, которое конкурирует с TSMC и Samsung. Первые серийные процессоры с новой литографией должны показать, насколько технология готова к широкому промышленному применению.
